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產品特色：
◆ 高性能和高性價比的科學(xue)研究(jiu)級AFM
◆ 支持多種工作模式和多種功(gong)能模塊擴展，滿足絕大多數(shu)的基礎(chu)科研應用
◆ 開放(fang)式的結構(gou)設計(ji)，支持更多定制化的功能(neng)選擇
◆ XYZ三軸獨立(li)閉(bi)環壓(ya)電陶瓷掃(sao)描器，同時實(shi)現高精度的定位和高分辨掃(sao)描測(ce)量
◆ 閉環(huan)壓電陶瓷(ci)掃描測量(liang)無需非線性校正，納(na)米表征和(he)測量(liang)精(jing)度優于99.5%
技術參數：
掃(sao)描(miao)范圍 | XY閉環100*100um，Z閉(bi)環10 um | 系統噪音(yin)水平 | RMS≤30 pm |
掃描分辨率 | XY閉環0.2nm， Z閉環0.04nm | 圖像采樣點(dian) | 最高4096*4096 |
掃描速(su)度 | 0.1Hz~100Hz | 減震方式 | 氣浮式(shi)減震臺(tai)或主動式(shi)減震臺(tai) |
標準成像(xiang)模式 | 接觸模式(shi)、輕敲模式(shi)、相位(wei)成像、側向力模式（LFM） | ||
力學測量模(mo)式 | F-Z力曲線、RMS-Z曲線(xian)、高級(ji)力(li)譜成像、力學Mapping測(ce)量(liang) | ||
電學測量模式 | 靜(jing)電力模式(shi)（EFM）、導(dao)電(dian)力(li)模式(shi)（C-AFM）、開爾文探(tan)針(zhen)力模式（KPFM）、壓(ya)電力模式（PFM）、掃描電(dian)阻模式(shi)（SSRM）、掃描(miao)電容模式（SCM） | ||
磁學(xue)測量模式 | 磁(ci)力模式(shi)（MFM）、可(ke)調制外加磁場 | ||
納米刻蝕功能 | 力學(xue)(xue)刻(ke)蝕、電學(xue)(xue)刻(ke)蝕 | ||
環境控制功能 | 液體成(cheng)像模式、密(mi)閉(bi)氣氛控(kong)制模式（特(te)殊(shu)氣體）、冷(leng)熱(re)一(yi)體(ti)溫(wen)控模式（-20℃~200℃）、電(dian)化學測量模式 | ||
光學輔助(zhu)功(gong)能 | 可適配體視顯微鏡、正置(zhi)金相(xiang)顯微鏡、倒置生物顯微鏡聯用 | ||
